2 hours ago
1
Jakarta, CNBC Indonesia - Ilmuwan China dilaporkan telah berhasil membangun prototipe mesin Extreme Ultraviolet Lithography (EUV), perangkat krusial untuk memproduksi chip semikonduktor paling canggih di dunia. Pencapaian ini menjadi tamparan keras bagi Amerika Serikat (AS) yang selama bertahun-tahun berupaya menutup akses Beijing terhadap teknologi tersebut.
Berdasarkan laporan Reuters, Kamis (1/1/2026), prototipe mesin berukuran raksasa yang memenuhi hampir seluruh lantai pabrik ini selesai dibangun pada awal 2025 di sebuah laboratorium dengan keamanan tingkat tinggi di Shenzhen.
Proyek rahasia ini dikerjakan oleh tim yang melibatkan mantan insinyur raksasa semikonduktor Belanda, ASML, yang melakukan teknik bongkar-pasang (reverse engineering) terhadap mesin EUV asli.
Proyek ini disebut-sebut sebagai "Proyek Manhattan" versi China, merujuk pada upaya rahasia AS dalam membangun bom atom di era Perang Dunia II. Raksasa teknologi Huawei memainkan peran sentral dalam mengoordinasikan ribuan insinyur dari berbagai lembaga riset negara untuk mengejar target kemandirian teknologi.
"Tujuannya adalah agar China akhirnya bisa membuat chip canggih dengan mesin yang sepenuhnya buatan dalam negeri. China ingin AS ditendang 100% dari rantai pasok mereka," ujar salah satu sumber yang mengetahui proyek tersebut kepada Reuters.
Saat ini, teknologi EUV dimonopoli oleh ASML. Mesin seharga US$ 250 juta (sekitar Rp 4 triliun) per unit tersebut sangat diperlukan untuk memproduksi chip AI, ponsel pintar, hingga senjata militer modern yang selama ini menjadi basis dominasi Barat.
Investigasi mengungkap bahwa China melakukan upaya agresif untuk merekrut talenta global. Beberapa mantan insinyur ASML yang direkrut dilaporkan bekerja menggunakan nama samaran dan kartu identitas palsu untuk menyembunyikan identitas mereka dari dunia luar, bahkan dari rekan kerja di fasilitas yang sama.
Sejak 2019, pemerintah China menawarkan bonus penandatanganan kontrak mulai dari 3 juta hingga 5 juta yuan (sekitar Rp 6,5 miliar hingga Rp 11 miliar) untuk menarik para ahli semikonduktor yang bekerja di luar negeri.
Meskipun prototipe ini sudah mampu menghasilkan cahaya ultra-ungu ekstrim (extreme ultraviolet light), mesin tersebut belum memproduksi chip yang berfungsi secara komersial. China masih menghadapi tantangan teknis besar, terutama dalam mereplikasi sistem optik presisi tinggi yang selama ini dipasok oleh perusahaan Jerman, Carl Zeiss AG.
Awalnya, analis memperkirakan China butuh waktu satu dekade untuk mengejar ketertinggalan teknologi chip dari Barat. Namun, dengan keberadaan prototipe ini, Beijing menargetkan sudah bisa memproduksi chip dari mesin tersebut pada tahun 2028, meski beberapa pihak menilai target tahun 2030 lebih realistis.
Breakthrough ini menandai puncak dari inisiatif enam tahun Presiden Xi Jinping untuk mencapai swasembada semikonduktor. Keberhasilan ini diprediksi akan mengubah peta persaingan teknologi global dan melemahkan efektivitas kontrol ekspor yang selama ini diterapkan oleh pemerintahan Joe Biden maupun Donald Trump.
(sef/sef)
[Gambas:Video CNBC]
